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幾種真空鍍加工技術(shù)
發(fā)布時間：2019-06-15
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幾種真空鍍加工技術(shù)：1、蒸發(fā)鍍膜設(shè)備與技術(shù) 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、價廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域, JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設(shè)備（加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設(shè)計的，在一個真空室內(nèi)完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事國防保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。 用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。
2、真空鍍加工的等離子擴滲鍍膜設(shè)備及技術(shù)；離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。 等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲) 等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。與CVD和PVD相比，PCVD技術(shù)可實現(xiàn)離子滲氮、滲碳和鍍膜在同一爐內(nèi)依次進行，高效率地實現(xiàn)滲透復(fù)合工藝。該設(shè)備適用于要求提高表面耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化、抗疲勞的零部件和工模具。被處理材料主要包括：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具鋼、結(jié)構(gòu)鋼、不銹鋼、鈦合金、硬質(zhì)合金等。
2、真空鍍加工的等離子擴滲鍍膜設(shè)備及技術(shù)；離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。 等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲) 等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。與CVD和PVD相比，PCVD技術(shù)可實現(xiàn)離子滲氮、滲碳和鍍膜在同一爐內(nèi)依次進行，高效率地實現(xiàn)滲透復(fù)合工藝。該設(shè)備適用于要求提高表面耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化、抗疲勞的零部件和工模具。被處理材料主要包括：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具鋼、結(jié)構(gòu)鋼、不銹鋼、鈦合金、硬質(zhì)合金等。
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